입자 크기 | 좁은 입자 크기 분포 |
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기공 크기 | 균일한 기공 크기 분포 |
표면적 | 효율적인 촉매 활동을 위한 높은 표면적 |
적용 | C3 탄화수소의 선택적 수소화 |
안정성 | 혹독한 조건에서도 뛰어난 안정성 |
형태 | 구형 |
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기공 크기 | 균일한 기공 크기 분포 |
선택성 | 고선택성 C3 수소화 |
활성 금속 | 팔라듐(Pd) |
적용 | C3 탄화수소의 선택적 수소화 |
선택성 | 80% |
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입자 크기 | 3-4.5mm |
기공 부피 | 0.85-0.95 Cm3/g |
표면적 | 150~200m2/g |
형태 | 구형 |
표면적 | 150~200m2/g |
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산업 | 화학 산업 |
압력 | 3.5Mpa |
선택성 | 80% |
적용 | C2의 선택적 수소화 |
활성 구성 요소 로딩 | ≥ 2중량% |
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활성화된 구성 요소 | Pd, Pt, Ni, 또는 Co |
수소화 선택성 | ≥ 95% |
지원 자료 내용 | ≥ 90중량% |
작동 온도 | 150~250°C |
작동 온도 | 150~250°C |
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외모 | 회색 또는 검은색 원통형 입자 |
기공 직경 | 30-80 Å |
기공 부피 | ≥ 0.35ml/g |
입자 크기 | 1.5-3.0mm |
작동 온도 | 550~650°C |
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기공 크기 | 20 nm |
형태 | 펠렛 |
제품 종류 | 촉매 |
벌크 밀도 | 0.62 그램/센티미터3 |