| Active Metal | Palladium |
|---|---|
| 촉매 유형 | 이질적 |
| Thermal Stability | High |
| Particle Size | 1-3 mm |
| 선택성 | >95% |
| 형태 | 구형 |
|---|---|
| 기공 크기 | 균일한 기공 크기 분포 |
| 선택성 | 고선택성 C3 수소화 |
| 활성 금속 | 팔라듐(Pd) |
| 적용 | C3 탄화수소의 선택적 수소화 |
| 촉매 유형 | 지지된 금속 촉매 |
|---|---|
| 형태 | 구형 |
| 활동 | C3 수소화에 대한 높은 활동성 |
| 안정성 | 혹독한 조건에서도 뛰어난 안정성 |
| 기공 크기 | 균일한 기공 크기 분포 |
| 입자 크기 | 좁은 입자 크기 분포 |
|---|---|
| 기공 크기 | 균일한 기공 크기 분포 |
| 표면적 | 효율적인 촉매 활동을 위한 높은 표면적 |
| 적용 | C3 탄화수소의 선택적 수소화 |
| 안정성 | 혹독한 조건에서도 뛰어난 안정성 |
| 지지물질 | 산화 알루미늄(Al2O3) |
|---|---|
| 안정성 | 혹독한 조건에서도 뛰어난 안정성 |
| 표면적 | 효율적인 촉매 활동을 위한 높은 표면적 |
| 촉매 유형 | 지지된 금속 촉매 |
| 입자 크기 | 좁은 입자 크기 분포 |
| 활성 금속 | 팔라듐(Pd) |
|---|---|
| 입자 크기 | 좁은 입자 크기 분포 |
| 지지물질 | 산화 알루미늄(Al2O3) |
| 활동 | C3 수소화에 대한 높은 활동성 |
| 표면적 | 효율적인 촉매 활동을 위한 높은 표면적 |
| 안정성 | 혹독한 조건에서도 뛰어난 안정성 |
|---|---|
| 선택성 | 고선택성 C3 수소화 |
| 지지물질 | 산화 알루미늄(Al2O3) |
| 활성 금속 | 팔라듐(Pd) |
| 기공 크기 | 균일한 기공 크기 분포 |
| 기공 크기 | 균일한 기공 크기 분포 |
|---|---|
| 재생성 | 활동의 상당한 손실 없이 여러 번 재생 가능 |
| 촉매 유형 | 지지된 금속 촉매 |
| 표면적 | 효율적인 촉매 활동을 위한 높은 표면적 |
| 활동 | C3 수소화에 대한 높은 활동성 |
| 촉매 유형 | 지지된 금속 촉매 |
|---|---|
| 선택성 | 고선택성 C3 수소화 |
| 지지물질 | 산화 알루미늄(Al2O3) |
| 재생성 | 활동의 상당한 손실 없이 여러 번 재생 가능 |
| 작동 온도 | 30~35도 |
| 적용 | C3 탄화수소의 선택적 수소화 |
|---|---|
| 입자 크기 | 좁은 입자 크기 분포 |
| 촉매 유형 | 지지된 금속 촉매 |
| 선택성 | 고선택성 C3 수소화 |
| 지지물질 | 산화 알루미늄(Al2O3) |
