| 선택성 | 80% |
|---|---|
| 입자 크기 | 3-4.5mm |
| 기공 부피 | 0.85-0.95 Cm3/g |
| 표면적 | 150~200m2/g |
| 형태 | 구형 |
| 활성 금속 | 팔라듐(Pd) |
|---|---|
| 입자 크기 | 좁은 입자 크기 분포 |
| 지지물질 | 산화 알루미늄(Al2O3) |
| 활동 | C3 수소화에 대한 높은 활동성 |
| 표면적 | 효율적인 촉매 활동을 위한 높은 표면적 |
| 지지물질 | 산화 알루미늄(Al2O3) |
|---|---|
| 안정성 | 혹독한 조건에서도 뛰어난 안정성 |
| 표면적 | 효율적인 촉매 활동을 위한 높은 표면적 |
| 촉매 유형 | 지지된 금속 촉매 |
| 입자 크기 | 좁은 입자 크기 분포 |
| 입자 크기 | 좁은 입자 크기 분포 |
|---|---|
| 기공 크기 | 균일한 기공 크기 분포 |
| 표면적 | 효율적인 촉매 활동을 위한 높은 표면적 |
| 적용 | C3 탄화수소의 선택적 수소화 |
| 안정성 | 혹독한 조건에서도 뛰어난 안정성 |
| 촉매 유형 | 지지된 금속 촉매 |
|---|---|
| 형태 | 구형 |
| 활동 | C3 수소화에 대한 높은 활동성 |
| 안정성 | 혹독한 조건에서도 뛰어난 안정성 |
| 기공 크기 | 균일한 기공 크기 분포 |
| 표면적 | 150~200m2/g |
|---|---|
| 산업 | 화학 산업 |
| 압력 | 3.5Mpa |
| 선택성 | 80% |
| 적용 | C2의 선택적 수소화 |
| 표면적 | 효율적인 촉매 활동을 위한 높은 표면적 |
|---|---|
| 기공 크기 | 균일한 기공 크기 분포 |
| 안정성 | 혹독한 조건에서도 뛰어난 안정성 |
| 입자 크기 | 좁은 입자 크기 분포 |
| 작동 온도 | 30~35도 |
