선택성 | 80% |
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입자 크기 | 3-4.5mm |
기공 부피 | 0.85-0.95 Cm3/g |
표면적 | 150~200m2/g |
형태 | 구형 |
활성 금속 | 팔라듐(Pd) |
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입자 크기 | 좁은 입자 크기 분포 |
지지물질 | 산화 알루미늄(Al2O3) |
활동 | C3 수소화에 대한 높은 활동성 |
표면적 | 효율적인 촉매 활동을 위한 높은 표면적 |
지지물질 | 산화 알루미늄(Al2O3) |
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안정성 | 혹독한 조건에서도 뛰어난 안정성 |
표면적 | 효율적인 촉매 활동을 위한 높은 표면적 |
촉매 유형 | 지지된 금속 촉매 |
입자 크기 | 좁은 입자 크기 분포 |
입자 크기 | 좁은 입자 크기 분포 |
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기공 크기 | 균일한 기공 크기 분포 |
표면적 | 효율적인 촉매 활동을 위한 높은 표면적 |
적용 | C3 탄화수소의 선택적 수소화 |
안정성 | 혹독한 조건에서도 뛰어난 안정성 |
촉매 유형 | 지지된 금속 촉매 |
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형태 | 구형 |
활동 | C3 수소화에 대한 높은 활동성 |
안정성 | 혹독한 조건에서도 뛰어난 안정성 |
기공 크기 | 균일한 기공 크기 분포 |
표면적 | 150~200m2/g |
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산업 | 화학 산업 |
압력 | 3.5Mpa |
선택성 | 80% |
적용 | C2의 선택적 수소화 |
표면적 | 효율적인 촉매 활동을 위한 높은 표면적 |
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기공 크기 | 균일한 기공 크기 분포 |
안정성 | 혹독한 조건에서도 뛰어난 안정성 |
입자 크기 | 좁은 입자 크기 분포 |
작동 온도 | 30~35도 |